465 连续突破，剑指17%！（求月票） (第2/2页)
　　
　　总体评分还是能给到7、8分的，值得一看。
　　
　　电影结束后，众人有序散场。
　　
　　许秋和韩嘉莹在大学路上手拉手，压着马路。
　　
　　途径一家快捷酒店，许秋撇了一眼学妹，见她走路的步伐似乎变慢了不少……
　　
　　于是，许秋试探的问道：“身份证带了嘛？”
　　
　　然后，得到学妹低声的回应：“嗯……”
　　
　　两人走进快捷酒店，许秋主动说道：“老板，来一间大床房。”
　　
　　“不好意思，今晚没有空余房间了。”
　　
　　“我们换下一家？”
　　
　　“好……”
　　
　　“老板，来一间大床房。”
　　
　　“不好意思，已经预定满了。”
　　
　　“老板……”
　　
　　“满了，一周前就预定满了，下次记得早点预定。”
　　
　　这几家都是沿路的快捷酒店，全部都没有空余的房间，别说大床房了，就连标间都被预约满了。
　　
　　许秋不由内心感慨，看来别人都是有备而来啊，果然机会总是会眷顾有准备的人。
　　
　　最后，许秋和韩嘉莹一路走回到了学校。
　　
　　许秋看到了旁边五星级的皇冠假日酒店，向韩嘉莹说道：“去试试运气？”
　　
　　学妹现在也不害羞了，大大方方的说道：“好呀。”
　　
　　“你好，还有房间吗，标间也行？”
　　
　　“先生你好，房间是有的，不过现在只有总统房了，你们要入住吗？”
　　
　　“多少钱？”
　　
　　“先生你好，总统房是1188软妹币一晚上。”
　　
　　“……来一间吧。”
　　
　　……
　　
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　　……
　　
　　（据说几个省略号就是几次，划掉）
　　
　　元旦虽说有三天的假期，但对于科研圈是不存在的。
　　
　　因为课题组里的日程安排是1月1号、2号周六、周日休息，1月3号周一照常上班，1月8号周六下午还要补班，所以相当于没有休。
　　
　　1月3号，周一早上。
　　
　　许秋已经拿到了之前交给模拟实验室摸索的两个结果。
　　
　　首先，是不同体系的器件性能，随蒸镀完成后在蒸镀舱内放置时间的变化趋势。
　　
　　结果表明，之前最高效率16.22%的三元IDIC-M二元COi8DFIC叠层体系，随着放置时间的延长，器件效率呈现先升后降的趋势。
　　
　　在放置时间为12小时的时候，器件效率达到峰值，为16.66%。
　　
　　许秋看到结果时的第一反应：“大概，这就是上帝留给划水实验者们的专属福利？”
　　
　　事实上，许秋之前没有发现这种“放置变好”的实验优化方法，很大程度上是受到了有机合成实验的影响。
　　
　　因为在做Stille偶合反应等有机合成实验的时候，许秋发现投反应的速度越快，最终的结果通常就越好，所以他在做器件的时候也直接代入了同样的想法。
　　
　　这也说明，搞科研这种东西，运气成分真的非常大。
　　
　　此外，这次“放置变好”的实验现象中，除了放置12小时达到峰值外，其他的结果也很有趣。
　　
　　许秋发现，当放置时间达到3小时时，最高效率就已经提升到了16.58%。
　　
　　之后延长放置时间，从6小时、到9小时，再到12小时，效率变化的幅度并不大，就是0.02%、0.03%左右，这样缓慢提升着。
　　
　　再之后，继续延长放置时间，效率下降的幅度同样不大，也是0.02%、0.03%左右，可以认为是效率在短期内已经趋于了稳定。
　　
　　同时，“放置变好”这个现象也不是对所有体系都适用的。
　　
　　许秋一共研究了十七种标准体系，发现其中只有五种体系，存在“放置变好”的实验现象，另外有八种体系是“放置变差”，还有四种体系是“放置不变”。
　　
　　他试着给“放置变好”、“放置变差”以及“放置不变”的体系分别归了归类，然后发现：
　　
　　“放置变好”、“放置变差”的体系，大多是有效层旋涂后，没有经过退火的体系，“放置不变”的体系，大多是经过退火处理的体系。
　　
　　退火这项实验操作，主要影响的是有效层旋涂过后残存的溶剂含量，如果不退火的话，沸点100多摄氏度的氯苯，以及沸点更高，可达200摄氏度以上的溶剂添加剂DIO等肯定会有所残留。
　　
　　因此，许秋认为“放置变好”、“放置变差”、“放置不变”这些实验现象，背后可以归因于：
　　
　　在蒸镀舱的真空环境下，器件内残存溶剂挥发对有效层形貌的影响。
　　
　　对于氯苯、DIO这些溶剂来说，它们在常温常压的条件下不容易挥发。
　　
　　而在常温低压的条件下，就会逐渐从器件有效层中“跑出来”，扩散到外界的真空氛围中。
　　
　　溶剂挥发的过程，是需要一定时间的。
　　
　　正常蒸镀的过程持续时间只有2小时左右，不足以让有效层内部的残留溶剂完全挥发。
　　
　　现在把这个时间额外延长3小时以上，就可以让溶剂近乎完全挥发。
　　
　　溶剂挥发的过程中，也将伴随着有效层显微形貌的改变。
　　
　　如果这个影响是正面的，反应出来的结果就是“放置变好”，反之，就是“放置变差”。
　　
　　在经过退火操作的器件中，因为有效层内残留的溶剂较少，所以可以认为不存在溶剂挥发这个过程。
　　
　　因此，额外的放置时间对于经由退火处理的器件性能的影响并不大。
　　
　　可能长时间放置也会有变化，但在短时间内的表现就是“放置不变”。
　　
　　当然，这些都是许秋提出的观点，具体对不对，只能通过不断的实验来检验。
　　
　　不过，他自我感觉这套理论没什么问题，至少现阶段的实验结果，是支持他这些推论的。
　　
　　许秋决定之后把“真空放置”这个实验操作，与热退火、溶剂退火等并列为一种对加工工艺进行优化的方式。
　　
　　具体操作起来，可以晚上蒸镀完成，不打开蒸镀舱，让基片在舱里“闷一晚上”，等到第二天白天过来再进行测试。
　　
　　这样做，就是消耗的时间会久一些。
　　
　　不过，为了提升器件性能，也是值得付出的成本。
　　
　　对于模拟实验室中的影响倒是不大，因为里面蒸镀舱的数量足够多，可以循环利用不同的蒸镀舱进行实验。
　　
　　另一方面，将PCBM引入顶电池的策略，同样获得了突破性的进展。
　　
　　现在二元IDIC-M三元COi8DFIC体系在模拟实验室中的结果，器件效率已经达到了16.83%。
　　
　　相较于之前三元IDIC-M二元COi8DFIC体系的16.22%，提升了0.61%。
　　
　　这个提升幅度在这个阶段，相对还是比较大的。
　　
　　不过，也很正常。
　　
　　之前国家纳米科学技术中心李丹课题组的报道工作，他们二元和三元体系之间的提升也有1%左右，反应到叠层器件中，能有0.61%的提升并不奇怪。
　　
　　现在，“真空放置”和“顶电池三元化”两项策略，双双取得了性能上的突破，可谓是双喜临门。
　　
　　而且，这两项策略许秋之前在摸索的时候，是相互独立的。
　　
　　换言之，如果把它们综合在一起，看现在这趋势，可以说是剑指17%！
　　
　　虽然许秋觉得有些梦幻，在短短一个多月的时间，他就把叠层器件的效率从原先的10%出头，做到了现在的接近17%。
　　
　　但其实从半经验分析结果上来看，叠层器件的性能显著高于单结器件才是正常的，叠层器件性能和单结器件差不多，那才是不正常的。
　　
　　比如，截止2018年6月16号，所有光伏体系中，三结和四结的叠层器件，世界最高效率记录已经分别达到了44.4%和46.0%。
　　
　　而单结器件中的王者，砷化镓光伏器件，最高效率也不过只有35.5%，两者相差10%。
　　
　　之前有机光伏领域一直处于不正常的区间，主要是因为没有找到合适的近红外受体材料。
　　
　　现在许秋团队带领着整个有机光伏领域，补足了这一块空缺，在效率上能够实现“飞跃”也不奇怪。
　　
　　如果能做到17%，就已经是非常好的数据了。
　　
　　看似有机光伏的17%，和其他光伏最高纪录的46.0%差距很大，但只要前者的器件成本能做到后者的三分之一甚至更低，那实际的差距就没有那么大。
　　
　　这也是为什么有些领域虽然性能不好，但也一直有研究者热衷于去研究的原因。
　　
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